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  • RF溅射的FE-N薄膜的磁导率研究

    • 摘要：

      研究了用RF溅射法制备的FE-N薄膜经过250℃磁场热处理后高频磁导率的变化情况.实验结果发现,在优化生长条件下生长的FE-N薄膜样品,在1

    • 作者：

      顾有松

    • 刊名：

      真空科学与技术学报

    • 在线出版时间：

  • 用MPCVD法制备氮化碳薄膜

    • 摘要：

      用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)在硅片和铂基片上生长了氮化碳薄膜.扫描电镜(SEM)观察显示,在硅片上形成了多晶的膜;EDX能谱分

    • 作者：

      顾有松,时东霞

    • 刊名：

      人工晶体学报

    • 在线出版时间：

  • C_3N_4硬膜的人工合成和鉴定

    • 摘要：

      用微波等离子体化学气相沉积法 (MPCVD)在硅和铂衬底上得到高质量的C3 N4薄膜 .计算了α C3 N4和β C3 N4单相X射线谱的峰

    • 作者：

      顾有松,时东霞

    • 刊名：

      中国科学A辑

    • 在线出版时间：

  • 理论预言的氮化碳超硬膜研究新进展

    • 摘要：

      β－C3N4的理论预言发表之后,经过广大科学工作者近10年的努力,已经取得了一些重要进展.理论上对碳氮化合物的研究已经更为广泛和深入.实验合

    • 作者：

      顾有松

    • 刊名：

      物理

    • 在线出版时间：

  • 新型超硬氮化碳薄膜的合成与表征

    • 摘要：

      用MPCVD法在SI等基片上沉积了氮化碳薄膜.扫描电镜观察表明,在硅表面上形成了比较致密的六棱形晶棒.EDX和XPS能谱测量表明晶棒中的氮碳

    • 作者：

      顾有松,时东霞

    • 刊名：

      中国学术期刊文摘

    • 在线出版时间：

  • C3N4膜的制备,结构和性能

    • 摘要：

      采用微波等离子体化学气相沉积法,用高纯氮气(99.999％)和甲烷(99.9％)作反应气体,在多晶铂(PT)基片上沉积C3N4薄膜.利用扫描

    • 作者：

      顾有松,时东霞

    • 刊名：

      真空科学与技术

    • 在线出版时间：