集成电路尺寸缩小技术研发
价格 60万
地区: 湖北省 咸宁市 崇阳县
需求方: 湖北***公司
行业领域
制造业,计算机、通信和其他电子设备制造业
需求背景
集成电路尺寸缩小技术研发的现实背景主要包括以下几个方面:
1.随着电子设备体积越来越小、功能越来越多,对集成度的要求也越来越高。为了追求更高的集成度,器件尺寸的缩小成为实现这一目标的关键技术。
2.器件尺寸缩小能够显著提高集成电路的性能,包括工作频率、速度和功耗等指标。
3.随着科技的发展,用户对电子设备的需求不断升级,更小、更快的集成电路成为市场的主流需求。
需解决的主要技术难题
针对当前难题,我们急需解决相关技术难题:
1.集成电路尺寸缩小的技术:光刻技术:利用光刻工艺将电路图案转移到硅片上,从而实现电路的缩小。
2.氧化物薄膜技术:通过在晶圆表面形成极薄的氧化物层来实现尺寸缩小。
3.金属导线技术:采用更小的导线尺寸来达到器件尺寸的缩放。
期望实现的主要技术目标
希望通过引进技术,实现企业发展目标,如下:
1.克服集成电路尺寸缩小带来的挑战和影响,实现电子迁移效应,避免导线尺寸减小导致电子迁移效应增加;
2.避免导致导线阻抗增加、信号延迟增加,甚至引发导线断裂等故障。
3.减小电热效应影响,因为功率密度增加导致器件产生更多热量,影响电路元件的温度,降低寿命和可靠性。
4.消除机械应力的危害,避免器件尺寸缩小会增加机械应力,导致晶体管漏电流增加、接触电阻增加等问题。
处理进度