科创中国

行业领域

新材料技术,高新技术改造传统产业

需求背景

随着电子触控显示玻璃应用的不断发展，ITO导电玻璃的需求量不断攀升，ITO产业迎来了新的发展机遇，ITO粉体的需求量亦会相应提高。目前国内高端ITO靶材主要依赖进口，自主研究的完备ITO靶材生产将具有巨大的市场和利益空间。综合性能优异且适于生产靶材的ITO粉体对提高ITO靶材质量具有重要意义。而作为ITO靶材的原料即ITO粉体是影响ITO靶材性能的决定性因素，粉体的性能如物相、纯度、粒径、粒径分布及颗粒形貌等均对ITO靶材的性能有较大影响，提高ITO靶材的质量，改善ITO粉体的性能是关键。因此，加强对ITO粉体的研究具有重要的现实意义。

需解决的主要技术难题

采用化学共沉淀法制备ITO粉过程中，由于缺乏某种重要的添加剂，ITO粉制备过程的中和反应无法做到铟和锡同步沉淀，制备的ITO粉存在分层和成分严重不均匀、团聚严重、多个物相共存及形貌不规则等问题，采用该粉体制备的靶材相对密度低且不均匀现象严重、晶粒粗大、电阻率高等，在溅射过程中黑化结瘤现象严重。

期望实现的主要技术目标

1拟通过实验重新优化制粉工艺，采用分别制备氧化铟和氧化锡粉体，通过探讨分析制备过程中各种因素（中和反应液中铟/锡离子浓度、中和反应温度、脱水干燥、煅烧温度和煅烧保温时间等）对粉体综合性能的影响，分别确定优化一套制备氧化铟/二氧化锡的技术参数，以获得粒度均匀、分散性好、球形或立方体形貌的纳米氧化铟/二氧化锡粉，为下一步的产业化提供技术支撑。

处理进度