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新材料技术

需求背景

    需求背景：目前世界上只有美国应特格公司能生产高纯度气体提纯设备，其产品市场占有率约为 90%，在全球市场上形成高度垄断。近年来，我国各类半导体及上下游行业的企业数量和规模快速上升，与此对应的是目前国内所需的高纯度气体纯化器设备和材料几乎全部依靠进口；特别是大流量、特大流量型以及特种气体提纯设备几乎处于落后与空白阶段。随着中美贸易摩擦增加，美国已对我国半导体及相关装备的产业链形成封锁，对我国半导体产业发展形成了巨大制约。本课题研究的大流量型高纯度气体提纯关键技术、核心装备和材料，旨在攻克关键技术壁垒，助力国内半导体产业快速发展。   

需解决的主要技术难题

 需解决的主要技术问题：

1、纯化器内部的纳米级限流孔板的设计和制备需要关键核心技术和超高精度的控制精度；

2、大流量型纯化器的毛细血管换热装置的设计、制备、焊接工艺技术需要达到精细化和高精度的技术要求。    

3、需要研究和开发新的气体纯化技术，例如高效吸附和蒸馏技术，以实现气体中杂质的高效去除

4、需要研究和开发新的杂质去除技术

5、为了实现高效的半导体用超高纯气体制备，需要研究和开发新的工艺设备

期望实现的主要技术目标

拟实现的主要技术目标：

1、精准地控制再生气体配比，使纯化物料再生效果达到最佳，纯化效果达到 12N 级别（国际最高标准）；

2、减少纯化器内部压损，换热效率提高20%，设备尺寸缩小15%   

3、开发高效的气体回收和再利用技术，减少废气的排放

4、实现对气体中各种杂质的高效、快速、稳定的去除

5、设备需要具备高效、稳定、自动化和可维护的特点，以实现气体的高效纯化和制备过程的优化

处理进度