旋涂绝缘介质的合成制备方法
价格 双方协商
地区: 北京市 市辖区 海淀区
需求方: 中关***合会
行业领域
新材料技术
需求背景
随着电子信息技术的发展,对电子系统的小型化、轻薄化、多功能、高性能等方面提出了越来越高的要求,对hdi基板、fcbga、ic封装载板的需求量与日俱增。传统绝缘介质材料越来越难以满足高频高速高端基板的需求,因此需要开发低应力、低的高频介质损耗及高绝缘性能、高金属结合力的电介质层的绝缘胶膜材料及其制备方法,适应封装基板飞速提升材料的要求。
需解决的主要技术难题
1.在旋涂过程中,大量油墨脱落。该过程具有高水平的溶液浪费。此外,这会使低浓度溶液难以涂覆。
2.不能在曲面上形成薄膜,并且在涂覆柔性表面时难以使用。
3.不能在薄膜上产生梯度厚度产生均匀厚度的薄膜。
4.旋涂中涉及的干燥时间通常很短,因此不适用于需要延长干燥时间的工艺。
期望实现的主要技术目标
1.合成和纯化时需要防止单体;
2.工艺放大:单体并不能满足客户需求,还需要通过稳定的规模化量产来实现工业级供应;
3.光刻胶单体企业进入下游客户的供应商体系。
需求解析
解析单位:“科创中国”中关村产业技术联盟专业科技服务团(中关村产业技术联盟联合会) 解析时间:2023-10-15
方忠
中国科学院物理研究所
所长
综合评价
处理进度