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一种异质结硅磁敏三极管

成果类型:: 新技术

发布时间: 2023-12-10 21:08:44

科技成果产业化落地方案
方案提交机构:成果发布人| 王晓雯 | 2023-12-10 21:08:44

本实用新型公开了一种异质结硅磁敏三极管,所述传感器包括作为器件层的第一硅片(1)和作为衬底的第二硅片(2),其中,在所述第一硅片(1)上设置有用于检测磁场的硅磁敏三极管。本实用新型所述异质结硅磁敏三极管结构简单,实现了芯片的小型化和集成化。

1.一种异质结硅磁敏三极管,其特征在于,所述异质结硅磁敏三极管包括作为器件层的第一硅片(1)和作为衬底的第二硅片(2),其中,在所述第一硅片(1)上设置有用于检测磁场的硅磁敏三极管;在所述第一硅片(1)的上表面制作有发射区(4)和基区(5),在所述第一硅片(1)的下表面、第一硅片(1)与第二硅片(2)的交界面处设置有集电区(6);在所述发射区(4)的表面沉积有原位掺杂nc-Si:H薄膜,形成nc-Si:H/c-Si的异质结作为发射结;所述nc-Si:H薄膜的厚度为30~150nm。

所述传感器包括作为器件层的第一硅片(1)和作为衬底的第二硅片(2),可以广泛适用于异质结硅磁敏三极管等相关领域行业

黑龙江大学有博士后科研流动站7个,博士后科研工作站3个。有博士学位授权一级学科10个,硕士学位授权一级学科35个,硕士专业学位类别18个。有国家重点学科1个,国家重点(培育)学科1个;有国家级一流本科专业建设点33个、国家级特色专业10个、国家级一流本科课程(含精品在线开放课程)15门、省级重点学科群1个、省级重点一级学科12个,省级“双一流”国际一流建设学科1个,省级“双一流”国内一流建设学科5个。

在所述发射区(4)的表面沉积有原位掺杂nc-Si:H薄膜,形成nc-Si:H/c-Si的异质结作为发射结;所述nc-Si:H薄膜的厚度为30~150nm。可以有效降低成本,提高效率,具有环保、安全等优势。

本项目可以采用技术转让、技术合作等多种形式进行对接,欢迎有需求的企业单位联系洽谈。