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本发明公开了一种同步定位光刻曝光装置及方法,该装置包括二维运动平台、位于所述二维运动平台正上方用于承载待刻蚀对象的压电陶瓷运动模块、以及位于所述压电陶瓷运动模块上方的光源发生装置,所述二维运动平台包括控制二维运动平台沿第一方向运动的第一传动装置,所述压电陶瓷运动模块包括控制压电陶瓷运动模块沿与第一方向相反的第二方向运动的第二传动装置。本发明通过控制压电陶瓷运动模块运动时间与曝光时间的匹配关系,从而达到精确的同步定位曝光,消除运动曝光误差①

本发明提供了一种同步定位光刻曝光装置及方法，其可达到精确的同步定位曝光，并消除运动曝光误差。为了实现上述目的，本发明实施例提供的技术方案如下：一种同步定位光刻曝光装置，所述装置包括二维运动平台、位于所述二维运动平台正上方用于承载待刻蚀对象的压电陶瓷运动模块、以及位于所述压电陶瓷运动模块上方的光源发生装置，所述二维运动平台包括控制二维运动平台沿第一方向运动的第一传动装置，所述压电陶瓷运动模块包括控制压电陶瓷运动模块沿与第一方向相反的第二方向运动的第二传动装置。

本发明涉及光刻曝光技术领域，特别是涉及一种同步定位光刻曝光装置及方法。

背景技术

“激光干涉光刻”是实现像素化100纳米以下结构的极重要方法，具有低成本、无掩模、高效率、无玷污、大面积和环境要求低的优点。激光干涉光刻的重要性在于：

(1)易得到纳米结构；

(2)并行光刻，效率高，与信息光学技术结合，可实现准周期与非周期结
构；

(3)实现超大幅面。

近年来激光干涉光刻获得迅猛地发展。光束扫描光刻技术是在此基础上利用扫描控制方法将干涉光刻微区拼接形成宏观大幅面光刻效果的一种新兴干涉光刻技术方法，是无油墨先进印刷技术工业化生产大幅面制版的支撑技术。因此研究光束扫描光刻对推动我国无油墨先进印刷技术的工业化发展具有重要的现实意义和巨大的经济价值。

光束扫描干涉光刻技术制作的大幅面光刻品质取决于微区内的纳米结构率和微区间拼接的精度。在光刻刻蚀过程中，由于曝光过程被刻蚀工件始终处于运动状态，因此系统在工作过程中会产生运动曝光形成误差。如何控制微区间拼接精度，减小或消除光刻曝光误差已经成为当前大幅面光刻制版面临的严峻问题。

因此，针对上述技术问题，有必要提供一种同步定位光刻曝光装置及方法。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了一种同步定位光刻曝光装置及方法，其可达到精确的同步定位曝光，并消除运动曝光误差。

发明人：陈涛 孙立宁 潘明强 刘吉柱 王阳俊 陈立国 汝长海 任子武 郭浩 厉茂海 陈国栋 林锐苏州大学坐落于素有“人间天堂”之称的历史文化名城苏州，是国家“211工程”“2011计划”首批入列高校，是教育部与江苏省人民政府共建“双一流”建设高校、国家国防科技工业局和江苏省人民政府共建高校，是江苏省属重点综合性大学。苏州大学前身是Soochow University（东吴大学，1900年创办），开现代高等教育之先河，融中西文化之菁华，是中国最早以现代大学学科体系举办的大学。在中国高等教育史上，东吴大学是最早开展研究生教育并授予硕士学位、最先开展法学（英美法）专业教育，也是第一家创办学报的大学。1952年中国大陆院系调整，由东吴大学之文理学院、苏南文化教育学院、江南大学之数理系合并组建苏南师范学院，同年更名为江苏师范学院。1982年，学校更复名苏州大学（Soochow University）。

本发明的有益效果是：本发明提供的同步定位光刻曝光装置及方法，通过压电陶瓷运动平台实现待刻蚀对象的瞬时运动，产生与高精度二维运动平台的反向等速运动，使待刻蚀对象形成与激光头同步、相对静止的运动状态，从而实现同步光刻曝光。通过控制压电陶瓷运动模块运动时间与曝光时间的匹配关系，从而达到精确的同步定位曝光，消除运动曝光误差。

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