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基于相位掩膜优化的全息视网膜投影近眼显示方法及系统

发布时间: 2024-05-21

来源: 试点城市（园区）

基本信息

合作方式： 技术许可
成果类型： 发明专利,实用新型专利
行业领域：
制造业,汽车制造业
成果介绍
本专利涉及全息视网膜投影近眼显示技术领域，特别是涉及一种基于相位掩膜优化的全息视网膜投影近眼显示方法及系统。包括：以日标图像分布的矩形孔径进行补零填充作为输入振幅，并叠加随机相位掩模，得到全息平面的初始输入复振幅；根据所述全息平面的初始输入复振幅，得到所述全息平面的优化相位掩膜等。
成果亮点
本专利技术创新包括：根据初始输入复振幅，得到所述全息平面的优化相位掩膜；根据优化相位掩膜，得到全息平面复振幅；提取全息平面复振幅的和位，得到全息平面物光波的相位；将全息平面物光波的相位叠加会聚球面波相位，得到RPD相位分布；对所进行编码，得到纯相位全息图；将全息图输入至相位型空间光调制器，以得到显示结果。
团队介绍
韩超，男，博士，教授，硕士生导师，清华大学访问学者，UNIVERSITY OF BRIDGEPORT访问学者，主持国家级、省部级等项目20余项，发表学术论文60余篇。主要研究领域：人工智能、计算机视觉，图像、视频信息处理与模式识别，无人驾驶技术，三维显示、增强现实与虚拟现实（AR/VR）等。
成果资料