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1.一种X/γ射线屏蔽用高聚物基柔性薄膜，其特征在于，由微晶CsPbBr3和PDMS交联后热固化而成。 2.根据权利要求1所述的高聚物基柔性薄膜，其特征在于，所述高聚物基柔性薄膜中微晶CsPbBr3含量为30-70wt.%。 3.权利要求1或2所述的X/γ射线屏蔽用高聚物基柔性薄膜的制备方法，其特征在于，所述方法： 将CsPbBr3微晶粉末和PDMS搅拌至混合均匀，然后加入固化剂继续搅拌，接着于玻璃培养皿中均匀铺开并除泡，最后进行热固化，得到X/γ射线屏蔽用高聚物基柔性薄膜。 4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，CsPbBr3微晶粉末的制备过程为：①将CsBr和PbBr2按一定摩尔比溶于DMSO中搅拌过夜，得到前体溶液；②过滤后，加入甲苯，然后加热使其结晶，最后退火处理，得到CsPbBr3微晶粉末。

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