成果介绍
公开了一种电磁屏蔽膜用金属层的制备方法,属于电子材料技术领域。本发明采用如下制备方法:将经表面粗化处理的电磁屏蔽膜基材浸入受体中心溶液中处理,使得基材表面紧密组装有受体中心,然后通过浸泡吸附激活离子,最后将基于上述处理的基材放入化学沉积液中生长金属层,最终制得电磁屏蔽膜用金属层。
成果亮点
昂贵的设备即可制得均匀致密的金属层,且可实现金属层与非金属电磁屏蔽基材等难镀基材的强结合;本发明制备工艺简单、生产成本低,可用于电磁屏蔽膜的大规模工业生产。
团队介绍
我们的团队专注于开发一种电磁屏蔽膜用金属层的制备方法,通过独特的化学沉积和物理蒸发技术,在基材上形成高导电性的金属层。这种方法旨在提高电磁屏蔽效率,同时保持膜材料的轻薄和灵活性,适用于各种电子设备的屏蔽需求。团队汇集了材料科学、电子工程和物理化学的专家,致力于为通信、航空航天和消费电子领域提供高性能的电磁屏蔽解决方案。
成果资料