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极紫外和X射线技术是物质结构精密观测、半导体芯片制造和高能物理诊断中的重要手段。团队在大尺寸高效率极紫外与X射线薄膜器件领域开展了二十年创新研究，主要成果： 1.建立了XUV薄膜器件界面缺陷的解耦精确表征方法，揭示了原子不均匀结晶、扩散混合和化合反应等缺陷的形成规律，阐明了界面缺陷对膜层间折射率差异的影响，获得了其与反射率的构效关系 2发展了原子级阻隔层、氩氮混合反应溅射等XUV薄膜器件界面缺陷调控技术，解决了膜层不均匀结晶、扩散混合和化合反应有效抑制的难题，显著提升了XUV薄膜器件的反射率 3发展了倾斜粒子调控和膜厚精确控制等大尺寸XUV薄膜生长技术，针对正入射和掠入射不同反射元件研制了大口径镀膜设备，突破了大尺寸纳米薄膜生长中界面结构和膜层厚度的控制难题，实现了最大半米长度高反射率多层膜的制备，膜厚控制误差达到几十皮米量级 基于上述技术研制的极紫外和X射线多层膜反射镜成功应用在国内外同步辐射光源、中物院强场物理诊断等大科学装置和仪器中，实现了高性能极紫外与X射线多层膜的国产化替代。相关成果获授权发明专利十余项，发表SCI论文70余篇，获2021年中国仪表学会技术发明奖一等奖

（1）团队是国内唯一能研制覆盖波长从50nm至约***的极紫外与X射线全波段实用化多层膜反射镜的单位，部分波段反射率性能达到国际先进或领先水平；（2）团队能完成最大口径300mm或1米长反射镜的高均匀性多层膜镀制，膜厚控制精度最高达到几十皮米量级，达到国际先进水平；（3）长期服务于极紫外与X射线波段光刻机、光谱诊断、显微成像、同步辐射大科学装置、天文观测等各种应用。

王占山教授，同济大学先进技术研究院院长，国家杰出青年基金获得者，教育部长江学者特聘教授，国际光学与光子学学会会士（SPIE Fellow），国家基金委创新研究群体负责人。曾获国家技术发明奖二等奖（排名第一），教育部技术发明奖一等奖等。主要研究领域包括极紫外与X射线薄膜器件、高损伤阈值激光薄膜器件、精密光学成像系统等。

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