成果介绍
本发明涉及一种硅基硅锗异质结双极晶体管及其制造方法,属于电子技术领域。
成果亮点
在衬底上离子注入形成N+BL埋层;在N+BL埋层上形成四氮化三硅应力层;离子注入形成N‑集电区;通过氧化形成二氧化硅掩蔽层,刻蚀出集电区窗口后进行硼离子注入,并执行快速退火操作以消除晶格损伤;离子注入形成N+BL埋层连通区;在应变基区选择性外延Si1‑xGex基区;在Si1‑xGex基区上方淀积硅帽层;淀积N型多晶硅作为发射极;刻蚀Si并淀积SiGe材料与四氮化三硅应力层形成集电区应力区;光刻集电极、发射极和基极以外的金属,形成电极引线。本发明能够增强载流子的迁移率、减小载流子总渡越时间,提高晶体管工作速度。
团队介绍
王冠宇,凌鹏,孔森林,向盈聪,周春宇,王巍
成果资料