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牙釉质辐射剂量的模拟计算系统

发布时间: 2022-12-31

来源: 国家知识产权局

基本信息

合作方式： 技术转让
成果类型： 发明专利
行业领域：
生物与新医药技术,生物产业,科学研究和技术服务业,卫生和社会工作
成果介绍
现有技术在牙釉质照射剂量和EPR信号强度线性关系预测中，预测精度低，特别是在低剂量区域，牙釉质辐射剂量分析极大会受背景噪声影响，使得剂量预测数据不准确，而辐射剂量的低剂量区预测是目前重点关注的对象。本项目优势在于可同时保证简便的参数计算、较少的超参数估计和有效的低剂量求解。
成果亮点
本实验室已完成方法的设计，计算量与原有矩阵方法持平，没有引入新的模型参数（或超参数），参数数量少，拟合效果很好，拟合误差均小于1%，在<***的低剂量区，本发明计算所得的照射剂量值与真值相差≤16%，实现了更低剂量的EPR牙釉质剂量估算。 发明专利：一种牙釉质辐射剂量的预测方法、系统、存储介质及终端，实质审查阶段。
团队介绍
刘玉连： 中国医学科学院放射医学研究所，毕业于中国医学科学院北京协和医学院。
成果资料