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新材料技术

传统干膜光刻胶主要组分中，占80%以上的碱溶性树脂是丙烯酸和丙烯酸酯共聚物，作为非光敏性组分，与可聚合单体、光引发剂和助剂溶解涂膜。在曝光时，曝光区域发生交联聚合变得不溶不熔。在显影液中，曝光区域交联聚合物不被溶解，而碱溶性树脂和未曝光区域的预聚体在碱液中被中和成羧酸盐而被溶解，从而形成光刻图案。一个致命问题在于不论曝光区域还是未曝光区域，作为非光敏性组分的碱溶性树脂都被溶解，造成留膜率大幅下降，不仅降低原料的有效利用率，造成资源浪费和环境污染，而且显著降低曝光膜质量、边缘粗糙度和分辨率。 为了解决这一技术难题，减少碱溶性树脂的溶解，降低非光敏性组分的消耗和原料成本，我们合成一类可以进行化学改性的碱溶性基体树脂，让曝光区域碱溶性树脂也能参与曝光时的交联聚合，消除曝光区域碱溶性树脂的溶解。

根据传统的光膜光刻胶配方，可聚合单体主要包括丙烯酸及其酯。为了让碱溶性树脂最大程度地参与交联聚合，我们对合成的碱溶性树脂进行乙烯基改性，使树脂分子量上带上大量的可聚合基团。在曝光时，碱溶性树脂分子链上的乙烯基不仅可以自交联，还可以和大量丙烯酸及丙烯酸酯发生共聚交联，形成不被显影液溶解的交联聚合物膜。 主要优势：（1）最大限度地原材料利用率，把原本作为非光敏性的碱溶性树脂这一纯粹伪模板作为可聚合交联的光刻胶，节省了原有干膜光刻胶中非光活性的碱溶性树脂消耗。（2）这类干膜光刻胶具有很大的可塑性，可以调节不同的玻璃化温度、力学强度、耐热性、附着性，以适应不同的应用需求。 研制3种不同类型的干膜光刻胶，技术成熟，对应于下游不同解析度和不同制程需求。 主要性能指标： DP-2010分辨率 5微米，高对比度、高解析度、精细线路 DP-3610分辨率8微米，高对比度、高感光度、高解析度、抗刻蚀性能好 DP-3620分辨率10微米，高感光度、生产效率高、高解析度、抗刻蚀性能好

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