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大幅面空间隔离型原子层沉积技术

发布时间: 2022-11-25

来源: 科技服务团

基本信息

合作方式： 技术许可
成果类型： 发明专利,实用新型专利
行业领域：
新材料技术
成果介绍
原子层沉积（Atomic layer deposition, ALD）是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器，化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法，是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在衬底表面的方法。因此，它是一种真正的“纳米”技术，以精确控制方式实现纳米级的超薄薄膜沉积。由于ALD利用的是饱和化学吸附的特性，因此可以确保对大面积、多空、管状、粉末或其他复杂形状基体的高保形的均匀沉积。
成果亮点
* 体积小巧，可放在实验桌面上，方便集成； * 热壁式加热，加热更均匀； * 加热式前驱体支管，前驱体瓶 ，防止支管内沉积； * 双路支管，氧化/ 还原与有机金属前驱体分开输运； * 多8 路前驱体通道， 适合复杂/ 掺杂薄膜的沉积； * 多层衬底托盘， 多同时沉积9 片基体； * 可容纳多片4，6，8 英寸样品同时沉积； * 可容纳*** 英寸/32mm 厚度的基体； * 标准CF-40 接口 。
团队介绍
华中科技大学是国家教育部直属重点综合性大学，由原华中理工大学、同济医科大学、武汉城市建设学院于2000年5月26日合并成立，是国家“211工程”重点建设和“985工程”建设高校之一，是首批“双一流”建设高校。
成果资料
产业化落地方案
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