成果介绍
一、项目简介
该成果是一种用热丝化学气相沉积(HWCVD)方法进行低成本的耐高温二极管制备的技术,它采用高熔点的钨或钽丝作为催化分解热丝,对通入生长腔体中的气体进行快速分解,通过控制热丝温度、H2 稀释比、衬底温度和生长气压等参数,可以实现不同导电类型的纳米硅薄膜的沉积和相关二极管的制备,制备的纳米硅薄膜大面积均匀,载流子浓度和迁移率可控性好。
成果亮点
二、创新点以及主要技术指标
1.纳米硅薄膜的禁带宽度大于 ***;2. 纳米硅薄膜的晶化率大于 90%;3. 纳米硅薄膜二极管的工作温度不低于 300oC,远高于传统的晶体硅二极管 150oC 的最高工作温度。4 用热丝化学气相沉积(HWCVD)方法进行低成本的耐高温二极管制备的技术,制备的纳米硅薄膜大面积均匀,载流子浓度和迁移率可控性好。
团队介绍
联系人: 庄仙竹
电话:15295039286
单位名称: 武进区科技成果转移中心
成果资料