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新材料技术,高分子材料

1.电源： 1）高功率脉冲磁控溅射电源 2）高功率脉冲弧电源 3）高频同步偏压电源； 2.工艺和设备 1）陶瓷、光纤金属化涂层技术 2）生物医疗涂层处理技术； 3）超薄刃口低损伤处理技术； 4）管道内壁耐腐蚀DLC膜层的制备技术； 5）超厚DLC膜层技术；

1.电源： 1）HiPIMS（高功率脉冲磁控溅射电源） HiPIMS（高功率脉冲磁控溅射电源）可直流+脉冲组合输出，脉冲峰值电流高，具有高离化率，放电密度大、粒子能量高、反应活性好。可作为直流磁控溅射电源的升级替代方案。抗腐蚀、耐磨损的硬质镀膜工艺中，高功率脉冲磁控溅射应用是首选。 2）高功率脉冲弧电源 高功率脉冲弧电源具有引弧、断弧自检及重引弧的功能。具有离子束密度高、沉积态涂层表面光滑的特性。 3）高频同步偏压电源 高频同步偏压电源在镀膜工艺流程中为工件提供负（或正）偏压，电源的输出电压与脉冲宽度独立调整，提高工艺可控性。 2.工艺和设备 1）陶瓷、光纤金属化涂层技术 2）生物医疗涂层处理技术 3）超薄刃口低损伤处理技术； 4）管道内壁耐腐蚀DLC膜层的制备技术 5）超厚DLC膜层技术

东莞市松山湖材料实验室等离子团队成立于2019年12月，其孵化公司_新铂科技（东莞）有限公司成立于2020 年12 月14日，注册资本500 万元人民币。是国内专业从事真空镀膜系统的研发、制造、销售为一体的国家级高新技术企业。 团队现有20余人。研发人员均为硕士及以上学历（其中博士6人）负责人为来自哈尔滨工业大学的田修波教授。从1990年开始，专家团队在国内率先开展了复合脉冲镀膜电源，尤其是高功率脉冲磁控、高功率辉光放电以及高功率脉冲多弧电源及放电技术的研究，已经有近30年的积累。专家团队研发的基于高离化率等离子体镀膜技术，已经应用于医疗、半导体、通讯、能源、穿戴等多个关键领域，在相关领域发表学术论文300余篇，申请专利30多项。