成果介绍
本成果创新性地提出一种沟中沟脊波导DFB激光器结构,相比较常规DFB激光器,在脊两侧对称的刻蚀两个沟槽。此结构可抑制注入载流子的横向扩散,提高对光场的束缚,提高芯片带宽,满足芯片高速工作需要。芯片的高温输出光功率大于10mW,单模抑制比大于40dB,实测宽温25Gb/s眼图及误码率均达到商用需求。同时,相比较常规芯片,其制作过程只需多加一步简单的刻蚀,无需二次外延,成本低,做了2000小时的老化试验,其功率变化小于***%,具有高可靠性。
成果亮点
成果入选 2021 年科技部国家重点研发计划光电子与微电子专项重大科技成果,参加国家“十三五”科技创新成就展。
(1)高性价比芯片结构,量产良率高,无需制冷的电信级高可靠性。
(2)生产过程全国产化,打破国外垄断。
(3)更高的芯片带宽,满足5G应用高速应用需求。
团队介绍
张敏明,博士,教授,华中科技大学光学与电子信息学院副书记、副院长,下一代互联网接入系统国家工程研究中心常务副主任。2009年博士毕业于华中科技大学,2011-2012年美国南加州大学访问学者,研究方向为光互连与光接入芯片、器件与系统。主持国家重点研发计划项目1项、973计划课题1项、863计划课题4项、国家自然科学基金4项和湖北省重大科技创新计划项目2项,以通讯作者在 Light: Science and Applications、Photonics Research、Optics Letters、Optics Express等国际学术期刊及国际学术会议上发表论文70余篇,授权发明专利36项(含美国专利1项)。
成果资料
产业化落地方案