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本实用新型涉及蚀刻清洗领域，特别涉及一种蚀刻清洗治具，用于承放基板，并与等离子蚀刻清洗机相配合以对基板上LED元件发光面处的黑膜进行等离子蚀刻清洗，包括用于承放基板的主体，所述主体靠近基板的一面设置有与基板上的LED元件一一对应的清洗槽；所述清洗槽的深度大于所述对应的LED元件的高度，两者的差值在***～1mm之间；本实用新型的蚀刻清洗治具在主体上靠近基板的一面对应基板上的LED元件一一设有清洗槽，与直接用一个大的清洗槽对所有LED元件进行清洗相比，此设计能有效地限制等离子体的运动空间，让离子体可以更容易碰撞到LED元件的发光面，从而提高等离子蚀刻清洗的效率与效果。

用于承放基板，并与等离子蚀刻清洗机相配合以对基板上LED元件发光面处的黑膜进行等离子蚀刻清洗，其特征在于：包括用于承放基板的主体，所述主体靠近基板的一面设置有与基板上的LED元件一一对应的清洗槽；所述清洗槽的深度大于所述对应的LED元件高度，两者的差值在***～1mm之间。

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