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画幅式色散成像光谱装置及其探测方法

发布时间: 2022-05-25

来源: 试点城市（园区）

基本信息

合作方式： 技术转让
成果类型： 发明专利,新技术
行业领域：
高端装备制造产业,制造业
成果介绍

本发明公开了一种画幅式色散成像光谱装置及其探测方法，入射光经过前置光学系统后，以平行光形式第一次通过半透半反镜，其中透射光束第一次通过色散元件，发生色散；色散光束随后第一次经过第一成像物镜成像在其后焦面的反射狭缝上；色散图像的一列图像的光被反射狭缝反射，第二次经过第一成像物镜，再次到达色散元件，发生第二次色散，随后二次色散光束沿入射方向第二次通过半透半透镜，反射光束经过第二成像物镜后成像在后焦面的面阵探测器上，光信号转化为电信号并传到信号处理系统，通过系统整体推扫或者平移反射狭缝，可以获取探测场景完整的三维光谱立方体。本发明不需要图像拼接，空间分辨率不受狭缝宽度限制，具有高空间分辨率的优点。

成果亮点
团队介绍
成果资料