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一种基于泄露辐射成像在ccd靶面与安装定位面夹角误差的校准方法及装置

发布时间: 2022-05-24

来源: 试点城市（园区）

基本信息

合作方式： 技术转让
成果类型： 发明专利,新技术
行业领域：
高端装备制造产业,制造业
成果介绍

 本发明公开了一种基于泄露辐射成像在ccd靶面与安装定位面夹角误差的校准方法及装置，包括：照明光源，待测荧光物质，含金属层芯片基底，折射率匹配油，显微物镜，反射镜，偏振元件组，滤光片，聚束透镜，水平滑轨，成像透镜，ccd图像传感器。荧光样品在被照明光源辐照后，产生荧光表面等离激元波并泄露辐射通过含金属层芯片基底，在被显微物镜收集信号后实现荧光成像。期间，照明光源发出的激发光由偏振元件组和滤光片过滤。通过移动成像透镜的位置，提出泄露辐射霍夫变换算法对ccd图像传感器靶面进行检测，完成常规手段不易发现的ccd靶面与安装定位面夹角误差的精确校准。本发明结构简单，适用性强。

成果亮点
团队介绍
成果资料