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一种高透明超双疏表面的制备方法

发布时间: 2022-05-17

来源: 试点城市（园区）

基本信息

合作方式： 技术转让
成果类型： 发明专利,新技术
行业领域：
其他
成果介绍

本发明属于微纳米加工与应用领域，涉及一种高透明超双疏表面的方制备法。具体步骤如下：在基底上涂覆高分子层，而后涂覆相分离共混薄膜，再以反应离子刻蚀技术进行选择性刻蚀形成T型纳米柱凹角结构，该纳米柱短程无序长程有序的分布，可有效消除周期性微纳结构因光学衍射产生的宏观彩虹效应，结合光捕获作用实现高透明性，在表面修饰1H,1H,2H,2H全氟癸基三氯硅烷单分子层后，即可实现超疏水超疏油性能。该制备方法具备过程快速简单、低成本、低毒性等优点，可应用于触摸屏显示领域和可穿戴设备等自清洁表面、流体减阻等方面，应用前景广阔。

成果亮点
团队介绍
成果资料