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聚酰亚胺光刻胶

发布时间: 2022-04-24

来源: 科技服务团

基本信息

合作方式： 委托开发
成果类型： 发明专利
行业领域：
新材料产业,制造业
成果介绍

研制的聚酰亚胺光刻胶光刻后光刻线尺寸与掩膜线尺寸相切合，且边界清

晰，光刻过程没有发生热聚合，工艺条件与光敏聚酰亚胺相对匹配。光刻工艺还待进一步优化选择，包括前后烘烤时间和温度，曝光光强和时间等条件显影液极

性还需要调节，还需要进一步研制与光敏聚酰亚胺完全匹配的显影体系。光刻后

不留底膜，薄膜厚度小于 100 um，光刻后上下口宽度差不超过线宽的 1/5。

成果亮点
团队介绍
成果资料