一种晶体高饱和度连续快速生长的控制系统

发布时间: 2022-02-11

来源: 科创项目库

基本信息

合作方式：技术许可

成果类型：实用新型专利

行业领域：

新一代信息技术产业,信息传输、软件和信息技术服务业

成果介绍

本实用新型涉及一种晶体高饱和度连续快速生长的控制系统,系统包括控制装置,检测装置,执行装置和晶体生长装置.控制装置由PLC主机模块,触摸屏,热电阻输入模块,12个固态继电器和二台变频器组成;PLC主机模块通过输入接口与检测装置中的液位开关及测温热电阻相连,通过输出接口与执行装置中的电加热,电磁阀,循环泵及输送泵相连.溶液配制罐内溶剂和溶质共存,通过控制温度进行溶解,可使溶液所溶解的溶质含量接近溶解温度下的平衡溶质浓度.由于溶液配制罐温度大于培养罐生长温度,从而使溶液中溶解的溶质浓度高于生长温度下的平衡溶质浓度,保证进入培养罐的溶液处于过饱和状态.本实用新型系统提高了大尺寸晶体的生长速度.

成果亮点

团队介绍

成果资料

成果综合评价报告

评价单位：- (-) 评价时间：2023-03-17

孙爱华

无锡市人工智能学会

副会长

综合评价

该成果涉及晶体生长控制系统，尤其涉及一种晶体高饱和度连续快速生长的控制系统，属于生产过程设备领域。该技术创新性很强，且技术成熟，投资回报比较可靠。总体而言，该项技术思路方向很好，未来市场空间较大，有利于当前政策要求，转化成熟度高，值得支持推广。建议强化相应产品开发，加大产业链开发力度。

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