本发明涉及一种新型的晶体连续快速生长装置,属于生产过程设备领域.装置包括培养装置,过热过滤装置,溶液配制装置,高饱和度平衡装置和生长溶液循环装置.溶液配制罐内溶剂和溶质共存,通过控制温度进行溶解,可使溶液所溶解的溶质含量接近溶解温度下的平衡溶质浓度.由于溶液配制罐温度大于培养罐生长温度,从而使溶液中溶解的溶质浓度高于生长温度下的平衡溶质浓度,保证进入培养罐的溶液处于过饱和状态.生长溶液输送泵以可调节的流速抽取生长溶液在培养罐,过热过滤箱,溶液配制罐,高饱和度平衡箱之间循环.本发明装置提高了大尺寸晶体的生长速度.