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P型栅氮化镓大功率高电子迁移率晶体管(HEMT)量产关键技术突破及产业化

发布时间: 2019-05-08

来源: 科创中国_资源共享平台

基本信息

合作方式: 技术许可
成果类型: 发明专利
行业领域:
新兴行业
成果介绍
P型栅极氮化镓HEMT早在2010年就开始商业化,虽然P型栅极氮化镓HEMT的优越性能已经得到业界的认可,但要达到大范围应用及商业化仍有几项关键技术点需要突破。其中P型栅极氮化镓HEMT未能大范围应用的原因是阈值电压及承受的栅极电压范围较小,以600V等级的P型栅极氮化镓HEMT为例,阈值电压一般都低于2V,相比之下,相同电压等级的硅基大功率MOSFET,其阈值电压可以轻松到3V以上。现有商业化的P型栅极氮化镓HEMT,其最大栅偏压一般在47V范围。而传统的硅基大功率MOSFET的最大栅偏压可以达到2030V之间。低阈值电压及小的栅极电压承受范围,使得晶体管的封装成为一个极大的挑战;晶体管器件的寄生电感会导致重大的阈值电压波动,这种波动会导致本应关闭的器件发生错误开启。晶体管开关转换过程中的波动,会导致栅极电压超过晶体管可承受的最大栅偏压,从而最终导致器件失效。
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