科创中国
无掩模光刻机
发布时间: 2021-08-14
来源: 科创项目库
基本信息
合作方式：
股权融资
成果类型：
新技术
行业领域：
高端装备制造产业,制造业
成果介绍
光刻机是微加工的最基础装备。无掩膜光刻机（Maskless Aligner）是近年来出现的一个新品类的光刻机。它采用数字投影芯片作为图案生成器，免去了实体掩膜板，非常适用于小批量试制，节省了掩膜的制作成本和耗时。数字投影技术还带来了“灰度光刻”新功能，可用于制作未来的微光学器件。
成果亮点
团队介绍
专家点评
“科创中国”技术路演—第三代半导体专场 | 2021-06-03
成果资料
路演文件
微信公众号
下载app
Copyright © 2022 中国科学技术协会 版权所有 | 京ICP备16016202号-20
京公网安备 11010202008974号
于坤山
北京国联万众半导体科技有限公司—副总经理、教授级高级工程师